CVD Diamant:
Plasmareaktoren

 
Die zunehmende Anwendung von CVD-Diamant in unterschiedlichsten Gebieten führt zu einem Bedarf an leistungsstarken und robusten Mikrowellen-Plasmareaktoren,  die für die großflächige Abscheidung von Diamantschichten und -scheiben optimiert sind. Auf der Basis umfangreicher numerischer Simulationsrechnungen wurde am Fraunhofer Institut IAF eine Mikrowellen Plasma-CVD-Technologie entwickelt, in der ein ellipsoidförmiger Resonator verwendet wird, um die Mikrowellenstrahlung in ein intensives und ausgedehntes Plasma zu fokussieren. Diese ellipsoidförmigen Plasmareaktoren weisen eine Kombination vorteilhafter Eigenschaften auf:

• Großflächige Abscheidung: homogene Beschichtung von 3 " (2,45 GHz) bzw.  6 " großen Substraten (915 MHz)

• Hervorragende Stabilität: Langzeitbetrieb möglich, keine Plasmainstabilitäten

• Vielseitigkeit: Der Reaktor kann mit unterschiedlichsten Wachstumsbedingungen berieben werden (Druck, Gaszusammensetzung, Leistung etc.)

• Hoher Reinheitsgrad des Diamantmaterials: Eigenschaften der CVD-Diamantscheiben entsprechen denen perfekter Diamant-Einkristalle

Die zwei Abbildungen zeigen ellipsoidförmige Plasmareaktoren, welche mit einer ausgereiften Computersteuerung und umfangreichen Sicherheitseinrichtungen ausgerüstet sind. Sie eignen sich sowohl für den Einsatz in Forschungseinrichtungen als auch für kosteneffiziente Produktion in einer industriellen Umgebung. Die dargestellten Reaktoren sind mit 2,45 GHz, 6 kW (obere Abbildung) bzw. 915 MHZ, 30-60 kW (unterere Abbildung) Mikrowellengeneratoren ausgestattet.